多弧离子镀膜设备是一种高效、无害、无污染的干式电渡设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。采用磁过滤及泳冲技术，使沉积粒子细化，膜的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜，可以镀金属膜、氮化锆等化合物膜、多层超硬膜、氮化钛掺金膜和合金膜，并能在极短时间内完成全部加工工艺过程，是一种广谱的多功能高效镀膜设备，结合磁控溅射技术，并可镀制多层复合膜．与湿法电渡无法相比的，可广泛应用于工具、模具的超硬度高、耐酸、碱、盐的能力强，是湿法电镀无法相比的，可广泛应用于工具、模具的超硬涂层，制表、卫生洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品的装饰涂层等。 主要用途：　　主要用于镀制电导膜、光学膜、保护膜、超硬膜、装饰膜等；适合于塑料、陶瓷、玻璃等基体的镀膜.

主要组成：设备由镀膜室、真空机组、充气装置、磁控溅射源、夹具、烘烤装置、电控及其它辅助装置组成。

主要特点：

★工艺要求较灵活，在溅射镀膜时改变反应气体与工作气体的匹配，再附加其它工艺性要求即可获得不同金属膜，金属化合物膜、半导体膜等。　　

★具有温度可调的加热器控制装置，工艺适应性强。　　

★设备具有靶材利用率高，溅射温度低、溅射速率高、寿命长等特点　　

★对于不同基片配置不同结构的夹具，通用性、灵活性强.

★具有过流、过压、断水、欠压保护及电气互锁功能

★某些规格型号磁控反应溅射设备配有PLC（可编程控制器）、操作自动程度高，可靠性好。